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石灰濕法煙氣脫硫系統(tǒng)環(huán)保閥門(mén)

  • 發(fā)布日期:2015-09-09      瀏覽次數(shù):1441
    •                           石灰濕法煙氣脫硫系統(tǒng)環(huán)保閥門(mén)

                                    上海申弘閥門(mén)有限公司

      之前我們介紹環(huán)保廢水處理閥門(mén)選型石灰石/石灰濕法煙氣脫硫系統(tǒng)中各工藝過(guò)程均采用漿物料,脫硫系統(tǒng)特別是脫硫塔易結(jié)垢而影向系統(tǒng)的運(yùn)行。美國(guó)20世紀(jì)80年代中期以前建設(shè)的濕式石灰石脫硫系統(tǒng),許多在吸收塔內(nèi)部、除霧器和漿液管路內(nèi)出現(xiàn)了不同程的結(jié)垢,高硫煤電廠尤其嚴(yán)重。80年代后,通過(guò)對(duì)結(jié)垢題的研究,采用了一系列的措施,結(jié)垢問(wèn)題得到一定的解,但仍是影響脫硫系統(tǒng)的安全性和穩(wěn)定性的重要因素。
      上海申弘閥門(mén)有限公司主營(yíng)閥門(mén)有:減壓閥(氣體減壓閥,可調(diào)式減壓閥,活塞式減壓閥,蒸汽減壓閥,脫硫系統(tǒng)結(jié)垢會(huì)給系統(tǒng)的運(yùn)行帶來(lái)一系列危害。垢體影脫硫系統(tǒng)的物理過(guò)程和化學(xué)過(guò)程,造成系統(tǒng)阻力增加、脫硫效率下降,甚至還會(huì)影響脫硫產(chǎn)物中脫硫劑的含量及系統(tǒng)氧化效果;垢層達(dá)到一定厚度后,可能脫落,砸傷噴嘴和防腐內(nèi)襯;而結(jié)垢現(xiàn)象嚴(yán)重時(shí)甚至造成設(shè)備堵塞、系統(tǒng)停運(yùn)。本文對(duì)濕法脫硫系統(tǒng)結(jié)垢的原因進(jìn)行了分析,并對(duì)具體防垢措施進(jìn)行了綜述。
      一、垢的形成機(jī)理
      (一)“濕——干"結(jié)垢的形成
      在吸收塔煙氣入口處至*層噴嘴之問(wèn),以及后一層嘴與煙氣出口之問(wèn)的塔壁面,屬于“濕一千"交界區(qū),這部分容易結(jié)垢,屬于“濕一干"結(jié)垢。由于漿液中含有CaSO4、CaSO3、CaCO3及飛灰中含有硅、鐵、鋁等物質(zhì),這些物質(zhì)具有較大的粘度,當(dāng)漿液碰撞到塔壁時(shí),它們中的部分便會(huì)粘附于塔壁而沉降下來(lái)。同時(shí),由于煙氣具有較高溫度,加快沉積層水分的蒸發(fā),使沉積層逐漸形成結(jié)構(gòu)致密,類(lèi)似于水泥的硬垢。連州電廠的吸收塔“干一濕"界面區(qū)域嚴(yán)重的洗滌液富集、積垢現(xiàn)象,屬于此類(lèi)垢體。
      氣水分離器的結(jié)垢類(lèi)型也屬于“濕一干"結(jié)垢,它足由霧滴所攜帶的漿液碰到折板而形成的。香港南丫電廠除霧器出現(xiàn)過(guò)堵塞現(xiàn)象。
      另外,濕法脫硫裝置中強(qiáng)制氧化系統(tǒng)的氧化空氣管內(nèi)也可能出現(xiàn)“濕一干"結(jié)垢。氧化風(fēng)機(jī)運(yùn)行時(shí),其出口風(fēng)溫可高達(dá)l00℃,這使得由于氧化空氣的沖擊而附著在氧化風(fēng)管內(nèi)壁的石膏漿液很快脫水結(jié)塊,隨著運(yùn)行時(shí)間的增加,也就逐漸形成了氧化空氣管的大面積堵塞。香港南丫電廠和重慶電廠濕法脫硫裝置的氧化風(fēng)機(jī)出口噴嘴都有被石膏堵住的現(xiàn)象。

      序號(hào)使用設(shè)備或系統(tǒng)物資名稱(chēng)規(guī)格型號(hào)單位數(shù)量
      1磨煤機(jī)軸承GP-556盤(pán)4
      2給煤機(jī)給煤機(jī)托輥軸承2(帶座)NA204 TR  單側(cè)自密封偏心軸承盤(pán)20
      3脫硫地坑泵 軸承體50TLL-251
      4脫硫地坑泵 50TLL-251
      5廠用軸承6206-2Z盤(pán)7
      6除灰閘閥(碳鋼)Z41W-1C;DN80;PN1.6個(gè)2
      7 脫硫漿液循環(huán)泵排凈手動(dòng)蝶閥D71X-16   DN100  PN16個(gè)8
      8脫硫系統(tǒng)手動(dòng)高溫蝶閥D71X-16   DN50   PN16個(gè)10
      9脫硫系統(tǒng)手動(dòng)隔膜閥G41J-16   DN50   PN16個(gè)5
      10脫硫系統(tǒng)手動(dòng)閘閥Z41W-10C  DN100  PN16個(gè)4

      (二)結(jié)晶成垢
      1、硬垢的形成
      對(duì)于有石膏生成的漿液,當(dāng)石膏終產(chǎn)物超過(guò)懸浮液的吸收極限,石膏就會(huì)以晶體的形式開(kāi)始沉積。當(dāng)相對(duì)飽和濃度達(dá)到一定值時(shí),石膏將按異相成核作用在懸浮液中已有的晶體表面上生長(zhǎng)。當(dāng)飽和度達(dá)到更高值,即大于引起均相成核作用的臨界飽和度時(shí),就會(huì)在漿液中形成新的晶核,此時(shí),微小晶核也會(huì)在塔內(nèi)表面上生成并逐步成長(zhǎng)結(jié)成堅(jiān)硬垢淀,從而析出作為石膏結(jié)晶的垢捌。石膏產(chǎn)生均相成核作用的臨界相對(duì)飽和度為140%。
      對(duì)于石灰石/石灰濕法脫硫系統(tǒng),無(wú)論是采用自然氧化,還是采用強(qiáng)制氧化,都有石膏產(chǎn)生,在吸收塔脫硫漿液吸收SO2而產(chǎn)生的亞硫酸鈣經(jīng)氧化會(huì)生成硫酸鈣。電廠煙氣中的
      氧量一般為6%左右,可氧化部分的亞硫酸鈣,這種煙氣自身含氧發(fā)生的氧化稱(chēng)為自然氧化。自然氧化因鍋爐和脫硫系統(tǒng)設(shè)計(jì)運(yùn)行參數(shù)不同而程度各異。某一系統(tǒng)在操作時(shí),因自然氧化漿液回路中漿液的氧化比例(CaSO4/CaSO4+CaSO4摩爾比)小于l5%,亞硫酸鈣在結(jié)晶沉淀的過(guò)程中會(huì)由于表面吸附作用吸附硫酸鈣而引起共沉淀,使得脫硫漿液能始終使硫酸鈣(石膏)低于或保持在飽和狀態(tài)。氧化比例超過(guò)這一水平,漿液回路會(huì)產(chǎn)生多于共沉淀而減少的硫酸鈣。這就使硫酸鹽濃度增加.使系統(tǒng)處于過(guò)飽和狀態(tài).從而使得硫酸鈣構(gòu)晶離子的水平有可能大于臨界飽和度。對(duì)于濕法脫硫系統(tǒng),也可在漿液槽內(nèi)鼓入空氣而將漿液中的亞硫酸鈣氧化成石膏,這種由于外界鼓入空氣面發(fā)生的氧化為強(qiáng)制氧化。某一系統(tǒng)采用強(qiáng)制氧化、固含物一定時(shí),如果系統(tǒng)漿液的氧化比例達(dá)不到95%時(shí),由于石膏品種不夠,漿液中石膏晶粒的異相成核作用將不能全部消耗掉所產(chǎn)生的硫酸鈣,從而使得硫酸鹽濃度超過(guò)臨界飽和度。
      如上所述,某一系統(tǒng)當(dāng)漿液的氧化比例處于l5%~95%之間時(shí),硫酸鈣構(gòu)晶離子水平有可能大于臨界飽和度,從而使得系統(tǒng)結(jié)垢。對(duì)于濕法脫硫系統(tǒng),產(chǎn)生石膏垢淀的臨界氧化比例隨系統(tǒng)漿液的固含量、系統(tǒng)運(yùn)行參數(shù)的變化而改變。


      2、石灰濕法煙氣脫硫系統(tǒng)環(huán)保閥門(mén)軟垢的形成
      CaSO3?1/2H2O在水中的溶解度只有0.0043g/100gH2O(18℃)。濕法脫硫裝置在較高的pH值下運(yùn)行時(shí),由于吸收塔內(nèi)吸收的SO2在漿液中所存在SⅣ離子主要以SO32-形式存在,極易使亞硫酸鈣的飽和度達(dá)到并超過(guò)其形成均相成核作用所需的臨界飽和度,而在塔壁和部件表面上結(jié)晶,隨著晶核長(zhǎng)大,形成很厚的垢層,很快就會(huì)造成設(shè)備堵塞而無(wú)法運(yùn)行下去。這種垢物呈葉狀,柔軟,形狀易變,稱(chēng)為軟垢。美國(guó)EPA和TVA的中試結(jié)果表明,對(duì)于利用石灰石作為脫硫劑的濕式脫硫系統(tǒng),當(dāng)pH>6.2時(shí),仍會(huì)發(fā)生軟垢堵塞。在大多數(shù)實(shí)際的石灰石脫硫系統(tǒng)中,氣液接觸后的pH值很少超過(guò)6.0,故石灰石脫硫系統(tǒng)比較少發(fā)生軟垢堵塞。
      3、石灰濕法煙氣脫硫系統(tǒng)環(huán)保閥門(mén)石灰系統(tǒng)中的再碳酸化問(wèn)題
      在石灰系統(tǒng)中,較高pH值下煙氣中的CO2的再碳酸化,使得CaCO3過(guò)飽和,生成石灰石沉積物,總反應(yīng)式為:
      一般煙氣中,CO2的濃度達(dá)l0%以上,是SO2濃度的5O~l00倍。美國(guó)EPA和TVA的實(shí)驗(yàn)證明,當(dāng)進(jìn)口漿液的PH≥9時(shí),CO2的再碳酸化作用是顯著的。所以,無(wú)論從生成軟垢的角度還是從CO2的再碳酸化作用的角度,石灰系統(tǒng)漿液的進(jìn)口pH>~9時(shí)一定會(huì)結(jié)垢。
      石灰石系統(tǒng)不存在CO2的再碳酸化問(wèn)題。
      (三)沉積結(jié)垢的形成
      石灰石/石灰濕法脫硫漿液是一種含有固體顆粒的懸浮液,如果由于結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)不合理、攪拌不充分、管道內(nèi)流速過(guò)低等原因,造成漿液流速過(guò)低,不足以?shī)A帶其中的顆粒,就會(huì)引起固體顆粒沉積而堆積在容器底部或管道上。
      二、垢體的防治
      濕法脫硫系統(tǒng)易結(jié)垢堵塞,故在脫硫塔的總體設(shè)計(jì)方面,應(yīng)盡量使塔體簡(jiǎn)化,吸收塔設(shè)計(jì)越復(fù)雜,結(jié)垢的危險(xiǎn)就越大。因此,云石床不用再添加填料,吸收塔填料隔柵也不用布置那么復(fù)雜。噴淋塔不設(shè)置隔柵,或者采用隔柵和測(cè)桿交叉布置。同時(shí)對(duì)于各類(lèi)垢型,在了解其形成機(jī)理的基礎(chǔ)上,應(yīng)相應(yīng)采取適當(dāng)?shù)拇胧?br>(一)“濕一千"結(jié)垢防治
      “濕一干"結(jié)垢需要及時(shí)沖洗,沖洗結(jié)構(gòu)一般選用噴嘴裝置。塔壁面處“千一濕"交界區(qū)的沖洗方式可采用連續(xù)沖洗或間隔沖洗,間隔沖洗的周期一般應(yīng)小于30min。
      氣水分離器采用間隔沖洗,沖洗周期一般為30~60min。沖洗時(shí)應(yīng)注意水的壓力不宜過(guò)火,尤其是向下沖洗的噴嘴,否則容易發(fā)生飛濺而使煙氣的含濕量增加。具體的水壓應(yīng)根據(jù)噴嘴性能及其與氣水分離器的距離來(lái)確定。
      對(duì)于氧化空氣管內(nèi)的“濕一干"結(jié)垢,可在氧化空氣各支管上加裝冷卻水管,并在氧化風(fēng)機(jī)運(yùn)行時(shí)開(kāi)啟各冷卻水門(mén)。這樣由于氧化空氣溫度將有一定程度的下降,加之氧化空氣中含有大量水分,因而使附著在氧化風(fēng)管內(nèi)的石膏漿液水分難以蒸發(fā),從而保持了一種相對(duì)濕潤(rùn)狀態(tài)。當(dāng)氧化空氣流過(guò)時(shí),這些石膏漿液隨之被重新帶回吸收塔內(nèi)。為確保不堵塞,同時(shí)可對(duì)氧化管道采用0.1~0.3MPa的水進(jìn)行間隔的沖洗,間隔沖洗周期不入于20min。
      對(duì)于整個(gè)沖洗系統(tǒng),沖洗水量既要滿(mǎn)足沖洗部位不結(jié)垢、不堵塞,又要保證吸收塔內(nèi)液位的穩(wěn)定。如所有維持循環(huán)槽液位的補(bǔ)充水都用做沖洗水,還是不能保證沖洗部分不結(jié)垢,則要考慮沖洗裝置的設(shè)計(jì)問(wèn)題。一般,對(duì)于清洗水的噴射問(wèn)題,采用小角度多噴嘴方式不僅可以獲得較好清洗效果,而且即使在出現(xiàn)噴嘴堵塞的情況時(shí),所影響到未清洗面也比采用寬角度噴射清洗方式要小得多。另外,對(duì)于清洗水還必須保證其質(zhì)量,清洗用水必須沒(méi)有可能造成噴嘴堵塞的懸浮物或小碎片。為滿(mǎn)足要求,可在清洗水水泵入口處加裝濾網(wǎng)。
      (二)結(jié)晶成垢的防治
      1、硬垢的防治
      要防止石灰石/石灰濕法脫硫系統(tǒng)石膏垢淀形成,就要充分和連續(xù)地限制整個(gè)脫硫系統(tǒng)流通回路脫硫介質(zhì)中硫酸鈣(CaSO4)的飽和度不超過(guò)石膏結(jié)垢的臨界飽和度。
      (1)選擇合適的氧化方式
      對(duì)石灰石/石灰濕法脫硫系統(tǒng),氧化比例小于共沉淀臨界值和大于強(qiáng)制氧化臨界值時(shí),能使石膏維持一定的飽和度而不致結(jié)硬垢。相應(yīng)地為使系統(tǒng)不結(jié)垢,有兩種方法:一種是抑制氧化,使系統(tǒng)的氧化率小于共沉淀臨界值;另一種是強(qiáng)制氧化使系統(tǒng)氧化率大于強(qiáng)制氧化臨界值。
      A、抑制氧化。通過(guò)向脫硫漿液添加抑制氧化物質(zhì)(如硫乳劑)抑制氧化,控制漿液的氧化比例低于共沉淀臨界值。亞硫酸鹽的氧化是一個(gè)復(fù)雜的自由基反應(yīng)。脫硫系統(tǒng)早采用的抑制氧化添加劑是S2O32-,它是自由基接受體,可消耗自由基,阻止SO32-的氧化。后來(lái)實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)S2O32-可通過(guò)在漿液中直接添加單質(zhì)硫形成:
      元素S以乳化硫形式加入,較S2O32-便宜得多,添加S2O32-的方法不再采用。通過(guò)式(1)轉(zhuǎn)化成S2O32-的量正比于添加乳化硫的數(shù)量。所需乳化硫的數(shù)量主要取決于自然氧化程度,自然氧化取決于鍋爐運(yùn)行工況,主要為過(guò)剩空氣量。美國(guó)電廠脫硫抑制氧化系統(tǒng)漿液S2O32-濃度為100~4000ppm,典型值為l000ppm。硫乳一般加到石灰石漿液槽中,因?yàn)槭沂瘽衲ネǔ@妹撍到y(tǒng)返的含S2O32-的澄清水,可促進(jìn)硫的轉(zhuǎn)化。其它影響轉(zhuǎn)化率的岡素有:停留時(shí)問(wèn)、硫乳粒徑、溫度和攪拌強(qiáng)度。據(jù)報(bào)道,在美國(guó)脫硫系統(tǒng)中大轉(zhuǎn)化率可達(dá)50%。
      抑制氧化可大大減少結(jié)垢的發(fā)生,也就減少了除霧器、泵吸入口和噴頭的人二T=清洗次數(shù),減少因結(jié)垢積累脫落引起吸收塔內(nèi)襯和內(nèi)部構(gòu)件損壞的可能性,因而可減少系統(tǒng)維護(hù)費(fèi)用。另外抑制氧化還降低了漿液硫酸鈣濃度,使鈣離子濃度降低,石灰石相對(duì)飽和度減少,石灰石利用率提高,此外抑制氧化生成的亞_硫脧鈣晶體粒徑大,形成單個(gè)晶體的傾向較晶體凝聚明顯,晶體硫酸鈣成分很少,改善了脫水性能
      B、強(qiáng)制氧化。脫硫系統(tǒng)的強(qiáng)制氧化方式有3種:異地、半就地、就地氧化。目前,就地強(qiáng)制氧化方式已成為普遍的氧化方式,即氧化亞硫酸鈣所需的空氣直接從脫硫塔底部的漿液循環(huán)槽內(nèi)鼓入。
      對(duì)于就地強(qiáng)制氧化系統(tǒng),鼓入的空氣通過(guò)循環(huán)槽底部的曝氣器均勻鼓出,并在循環(huán)槽攪拌器的作用下將氣流分散為較小的氣泡。對(duì)于結(jié)構(gòu)一定的循環(huán)槽,其槽內(nèi)氧的總傳質(zhì)系數(shù)由鼓入的空氣量和攪拌器轉(zhuǎn)數(shù)所決定。通常,鼓入循環(huán)槽內(nèi)的空氣過(guò)量,空氣量按氧氣與脫除SO2的摩爾比O2/SO2 0.75~1.021換算求得。對(duì)于攪拌器轉(zhuǎn)數(shù),一方面要考慮攪拌對(duì)氣泡的分散作用以得到適當(dāng)?shù)难蹩倐髻|(zhì)系數(shù),使系統(tǒng)具有足夠的氧化所吸收的亞硫酸鈣的能力,從而保證系統(tǒng)漿液的固含物一定時(shí),氧化比例能大于強(qiáng)制氧化臨界值,為石膏結(jié)晶提供足夠的品種;同時(shí)還要考慮到固體顆粒的懸浮、槽內(nèi)物料的均勻分散及攪拌器的電耗等。
      為使亞硫酸鈣氧化生成的硫酸鈣有足夠的結(jié)晶表面積,漿液中應(yīng)有足夠的石膏晶粒,即應(yīng)向系統(tǒng)提供足夠的晶種。不同系統(tǒng)、不同的工況下,系統(tǒng)所需的小晶種量不同。已經(jīng)發(fā)現(xiàn),一般情況下,系統(tǒng)只要5%的固體石膏聚合物就可達(dá)到防止硫酸鹽結(jié)垢的目的。當(dāng)然,石膏晶粒濃度越高,越能防止硬膏的形成。然而,隨著漿液路中固體含量的增加泵難以抽吸高濃度漿液。一般認(rèn)為,固體物高含量在l5%以下是合適的。美國(guó)的大多數(shù)FGD系統(tǒng)漿液中含有7%~l5%的固體,但在某些情況下,體積卻只占到3%。在日本石膏有時(shí)候加入到循環(huán)過(guò)程中作為硫酸鹽結(jié)晶的晶核。
      (2)系統(tǒng)運(yùn)行時(shí)的注意事項(xiàng)
      A、吸收塔運(yùn)行前應(yīng)向氧化槽內(nèi)預(yù)注入一定濃度、粒度的石膏漿液作為品種。如果不預(yù)注石膏,由于先氧化而成的硫酸鈣無(wú)結(jié)品表面,使得飽和度大到一個(gè)很高的水平。這樣,在系統(tǒng)不停地積累達(dá)到所必需石膏的積累量之前,脫硫塔會(huì)有嚴(yán)重的結(jié)垢現(xiàn)象。
      B、循環(huán)槽內(nèi)的石膏漿液被排漿泵送入水力旋流器內(nèi),石膏漿液被濃縮,一部分含有微小石膏品粒的溢流液應(yīng)送回循環(huán)槽,以保證系統(tǒng)內(nèi)有足夠的石膏品種。
      C、循環(huán)槽內(nèi)漿液應(yīng)加強(qiáng)攪拌。漿液由吸收塔進(jìn)入循環(huán)槽,如果攪拌不充分,會(huì)使得弧硫酸鈣的局部濃度過(guò)大,使得局部氧化速率過(guò)火,從而使得局部硫酸鈣的飽和度過(guò)大,造成硫酸鈣在脫硫器表面上結(jié)晶。而且所有漿液貯槽的攪拌設(shè)備應(yīng)在系統(tǒng)一開(kāi)始運(yùn)行時(shí)即投入使用,以防嚴(yán)重結(jié)垢。
      D、在運(yùn)行過(guò)程中,要嚴(yán)密監(jiān)測(cè)石膏的飽和度,如工況擾動(dòng)強(qiáng)烈,使得有時(shí)塔內(nèi)石膏局部處的飽和度過(guò)大,可采用提高液氣比等方法來(lái)克服。
      (3)加入適當(dāng)?shù)挠袡C(jī)酸添加劑
      有機(jī)酸添加劑有阻垢作用,主要?dú)w因于其表面活性作用,具體表現(xiàn)在以下幾個(gè)方面:①分散作用:在小品粒和設(shè)備表面的小顆粒上形成薄膜(NaAD水合層),從而阻礙了小品粒的凝聚。②晶格畸變作用:有機(jī)酸鹽鑲在石膏或亞硫酸鈣晶格中,使晶體不穩(wěn)定發(fā)生畸變,從而使垢層變薄且疏。③降低表面張力作用:臨界晶核半徑與固液表面張力成正比,而有機(jī)酸能降低表面張力從而降低了臨界晶核半徑,使得漿液中出現(xiàn)的CaSO3、CaSO4容易結(jié)晶析出,并使之處于非飽和狀態(tài),因而起到阻垢作用。
      硬垢不能用降低pH的方法去除,一般用機(jī)械方法清除。
      2、軟垢的防治
      對(duì)于采用非強(qiáng)制氧化的濕法脫硫系統(tǒng),脫硫產(chǎn)物大部分為CaSO3?I/2H2O。為控制軟垢的形成,也應(yīng)在整個(gè)脫硫系統(tǒng)內(nèi)各個(gè)部位充分而連續(xù)地限制亞硫酸鈣的飽和度。為迫使循環(huán)槽內(nèi)的亞硫酸鈣結(jié)晶沉淀而維持一定的飽和度,脫硫漿液中應(yīng)維持一定濃度的亞硫酸鈣晶粒作為晶種。同時(shí),漿液在循環(huán)槽內(nèi)應(yīng)有一定的停留時(shí)間,循環(huán)槽尺寸通常按漿液停留時(shí)間介于5~10min來(lái)確定。我們介紹那304不銹鋼減壓器